උසස් තත්ත්වයේ සහ ලාභදායී ටැන්ටලම් කාබයිඩ් (TaC) ආලේපනය

කෙටි විස්තරය:

Porous tantalum කාබයිඩ් ප්‍රධාන වශයෙන් භාවිතා වන්නේ ගෑස් අදියර සංරචක පෙරීම, දේශීය උෂ්ණත්ව අනුක්‍රමය සකස් කිරීම, ද්‍රව්‍ය ප්‍රවාහ දිශාව මඟ පෙන්වීම, කාන්දු වීම පාලනය කිරීම යනාදිය සඳහා ය. විවිධ ප්රවාහ සන්නායකතාව සමඟ.

 

 


නිෂ්පාදන විස්තර

නිෂ්පාදන ටැග්

Semicera විවිධ සංරචක සහ වාහකයන් සඳහා විශේෂිත ටැන්ටලම් කාබයිඩ් (TaC) ආලේපන සපයයි.Semicera ප්‍රමුඛ ආෙල්පන ක්‍රියාවලිය ටැන්ටලම් කාබයිඩ් (TaC) ආෙල්පනවලට ඉහළ සංශුද්ධතාවය, ඉහළ උෂ්ණත්ව ස්ථායීතාව සහ ඉහළ රසායනික ඉවසීම ලබා ගැනීමට හැකියාව ලබා දෙයි, SIC/GAN ස්ඵටිකවල සහ EPI ස්ථරවල නිෂ්පාදන ගුණත්වය වැඩි දියුණු කරයි (ග්රැෆයිට් ආලේපිත TaC susceptor), සහ ප්රධාන ප්රතික්රියාකාරක සංරචකවල ආයු කාලය දීර්ඝ කිරීම. ටැන්ටලම් කාබයිඩ් TaC ආලේපනය භාවිතා කිරීම දාර ගැටලුව විසඳීම සහ ස්ඵටික වර්ධනයේ ගුණාත්මක භාවය වැඩිදියුණු කිරීම සඳහා වන අතර, Semicera විසින් ජාත්‍යන්තර උසස් මට්ටමට ළඟා වෙමින් ටැන්ටලම් කාබයිඩ් ආලේපන තාක්ෂණය (CVD) විසඳා ඇත.

 

වසර ගණනාවක සංවර්ධනයෙන් පසුව, Semicera තාක්ෂණය ජයගෙන ඇතCVD TaCපර්යේෂණ සහ සංවර්ධන දෙපාර්තමේන්තුවේ ඒකාබද්ධ උත්සාහයන් සමඟ. SiC වේෆර්වල වර්ධන ක්‍රියාවලියේදී දෝෂ ඇතිවීම පහසුය, නමුත් භාවිතයෙන් පසුවTaC, වෙනස සැලකිය යුතු ය. පහත දැක්වෙන්නේ TaC සමඟ සහ රහිත වේෆර්වල සංසන්දනය මෙන්ම තනි ස්ඵටික වර්ධනය සඳහා Semicera' කොටස්

微信图片_20240227150045

TaC සමඟ සහ නැතිව

微信图片_20240227150053

TaC භාවිතා කිරීමෙන් පසු (දකුණ)

මීට අමතරව, Semicera's TaC ආලේපන නිෂ්පාදනවල සේවා කාලය දිගු වන අතර SiC ආලේපනයට වඩා ඉහළ උෂ්ණත්වයට වඩා ප්‍රතිරෝධී වේ. දිගු කාලයක් රසායනාගාර මිනුම් දත්ත වලින් පසුව, අපගේ TaC ට උපරිම සෙල්සියස් අංශක 2300 ක් දක්වා දිගු කාලයක් වැඩ කළ හැකිය. පහත දැක්වෙන්නේ අපගේ සාම්පල කිහිපයකි.

微信截图_20240227145010

(අ) PVT ක්‍රමය මගින් SiC තනි ස්ඵටික ingot වැඩෙන උපාංගයේ ක්‍රමානුරූප රූප සටහන (b) Top TaC ආලේපිත බීජ වරහන (SiC බීජ ඇතුළුව) (c) TAC-ආලේපිත ග්‍රැෆයිට් මාර්ගෝපදේශ මුද්ද

ZDFVzCFV
ප්රධාන ලක්ෂණය
Semicera සේවා ස්ථානය
අර්ධ සේවා ස්ථානය 2
උපකරණ යන්ත්රය
CNN සැකසීම, රසායනික පිරිසිදු කිරීම, CVD ආලේපනය
අපගේ සේවය

  • පෙර:
  • ඊළඟ: