CVD TaC ආලේපනය සඳහා හැඳින්වීම:
CVD TaC Coating යනු උපස්ථරයක මතුපිට ටැන්ටලම් කාබයිඩ් (TaC) ආලේපනය තැන්පත් කිරීම සඳහා රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම භාවිතා කරන තාක්ෂණයකි. ටැන්ටලම් කාබයිඩ් යනු විශිෂ්ට යාන්ත්රික හා රසායනික ගුණ සහිත ඉහළ ක්‍රියාකාරී සෙරමික් ද්‍රව්‍යයකි. CVD ක්‍රියාවලිය වායු ප්‍රතික්‍රියාව හරහා උපස්ථරයේ මතුපිට ඒකාකාර TaC පටලයක් ජනනය කරයි.
ප්රධාන ලක්ෂණ:
විශිෂ්ට දෘඪතාව සහ ඇඳුම් ප්රතිරෝධය: ටැන්ටලම් කාබයිඩ් අතිශයින් ඉහළ දෘඪතාවයක් ඇති අතර, CVD TaC ආලේපනය උපස්ථරයේ ඇඳුම් ප්රතිරෝධය සැලකිය යුතු ලෙස වැඩිදියුණු කළ හැකිය. මෙම ආලේපනය කැපුම් මෙවලම් සහ අච්චු වැනි ඉහළ ඇඳුම් පරිසරයක යෙදීම් සඳහා වඩාත් සුදුසු වේ.
ඉහළ උෂ්ණත්ව ස්ථායිතාව: TaC ආලේපන 2200 ° C දක්වා උෂ්ණත්වවලදී විවේචනාත්මක උදුන සහ ප්රතික්රියාකාරක සංරචක ආරක්ෂා කරයි, හොඳ ස්ථාවරත්වයක් පෙන්නුම් කරයි. එය අධික උෂ්ණත්ව තත්ත්වයන් යටතේ රසායනික හා යාන්ත්රික ස්ථායීතාවය පවත්වා ගෙන යන අතර, එය ඉහළ උෂ්ණත්ව සැකසුම් සහ ඉහළ උෂ්ණත්ව පරිසරවල යෙදීම් සඳහා සුදුසු වේ.
විශිෂ්ට රසායනික ස්ථායිතාව: ටැන්ටලම් කාබයිඩ් බොහෝ අම්ල සහ ක්ෂාර වලට ප්‍රබල විඛාදන ප්‍රතිරෝධයක් ඇති අතර CVD TaC ආෙල්පනය මගින් විඛාදන පරිසරයන්හි උපස්ථරයට සිදුවන හානිය ඵලදායි ලෙස වළක්වා ගත හැක.
ඉහළ ද්රවාංකය: ටැන්ටලම් කාබයිඩ් ඉහළ ද්රවාංකයක් (ආසන්න වශයෙන් 3880 ° C) ඇත, CVD TaC ආෙල්පනය දියවී යාමෙන් හෝ පිරිහීමකින් තොරව අධික උෂ්ණත්ව තත්ත්වයන් තුළ භාවිතා කිරීමට ඉඩ සලසයි.
විශිෂ්ට තාප සන්නායකතාව: TaC ආලේපනය ඉහළ තාප සන්නායකතාවක් ඇති අතර, ඉහළ උෂ්ණත්ව ක්රියාවලීන්හි තාපය ඵලදායී ලෙස විසුරුවා හැරීමට සහ දේශීය උනුසුම් වීම වැළැක්වීමට උපකාරී වේ.
විභව යෙදුම්:
• Gallium Nitride (GaN) සහ Silicon Carbide epitaxial CVD ප්රතික්රියාකාරක කොටස් වේෆර් වාහක, චන්ද්‍රිකා පිඟන්, ෂවර් හෙඩ්ස්, සිවිලිං, සහ susceptors
• සිලිකන් කාබයිඩ්, ගැලියම් නයිට්‍රයිඩ් සහ ඇලුමිනියම් නයිට්‍රයිඩ් (AlN) ක්‍රූසිබල්, බීජ රඳවනයන්, මාර්ගෝපදේශ මුදු සහ පෙරහන් ඇතුළු ස්ඵටික වර්ධන සංරචක
• ප්‍රතිරෝධක තාපන මූලද්‍රව්‍ය, එන්නත් තුණ්ඩ, ආවරණ වළලු සහ බ්‍රේසිං ජිග් ඇතුළු කාර්මික සංරචක
යෙදුම් විශේෂාංග:
• උෂ්ණත්වය 2000°Cට වඩා ස්ථායී වන අතර, අධික උෂ්ණත්වවලදී ක්‍රියා කිරීමට ඉඩ සලසයි
•හයිඩ්‍රජන් (Hz), ඇමෝනියා (NH3), මොනොසිලේන් (SiH4) සහ සිලිකන් (Si) වලට ප්‍රතිරෝධී වන අතර, රළු රසායනික පරිසරයන්හි ආරක්ෂාව සපයයි
• එහි තාප කම්පන ප්රතිරෝධය වේගවත් මෙහෙයුම් චක්‍ර සක්‍රීය කරයි
• ග්‍රැෆයිට් ශක්තිමත් ඇලීමක් ඇති අතර, දිගු සේවා කාලය සහතික කිරීම සහ ආෙල්පන විමෝචනයකින් තොරව.
• අනවශ්‍ය අපද්‍රව්‍ය හෝ අපවිත්‍ර ද්‍රව්‍ය ඉවත් කිරීම සඳහා අතිශය ඉහළ සංශුද්ධතාවය
• තද මාන ඉවසීමට අනුකූල ආලේපන ආවරණය
තාක්ෂණික පිරිවිතර:
CVD මගින් ඝන ටැන්ටලම් කාබයිඩ් ආලේපන සකස් කිරීම：
ඉහළ ස්ඵටිකතාවයක් සහ විශිෂ්ට ඒකාකාරිත්වයක් සහිත TAC ආලේපනය:
CVD TAC COATING තාක්ෂණික පරාමිතීන්_Semicera:
ඉහත සාමාන්‍ය අගයන් වේ.
