ප්රධාන ලක්ෂණ:
1. ඉහළ උෂ්ණත්ව ඔක්සිකරණ ප්රතිරෝධය:
උෂ්ණත්වය සෙල්සියස් අංශක 1600 තරම් ඉහළ මට්ටමක පවතින විට ඔක්සිකරණ ප්රතිරෝධය තවමත් ඉතා යහපත් වේ.
2. ඉහළ සංශුද්ධතාවය : අධික උෂ්ණත්ව ක්ලෝරීන තත්ත්වය යටතේ රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් වීමෙන් සෑදී ඇත.
3. ඛාදනය ප්රතිරෝධය: ඉහළ දෘඪතාව, සංයුක්ත මතුපිට, සියුම් අංශු.
4. විඛාදන ප්රතිරෝධය: අම්ලය, ක්ෂාර, ලුණු සහ කාබනික ප්රතික්රියාකාරක.
හි ප්රධාන පිරිවිතරCVD-SIC ආලේපනය
| SiC-CVD ගුණාංග | ||
| ස්ඵටික ව්යුහය | FCC β අදියර | |
| ඝනත්වය | g/cm ³ | 3.21 |
| දැඩි බව | විකර්ස් දෘඪතාව | 2500 |
| ධාන්ය ප්රමාණය | μm | 2~10 |
| රසායනික සංශුද්ධතාවය | % | 99.99995 |
| තාප ධාරිතාව | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| Sublimation උෂ්ණත්වය | ℃ | 2700 |
| Felexural ශක්තිය | MPa (RT 4-ලක්ෂ්‍යය) | 415 |
| යන්ග් මාපාංකය | Gpa (4pt වංගුව, 1300℃) | 430 |
| තාප ප්‍රසාරණය (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| තාප සන්නායකතාව | (W/mK) | 300 |
